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产品介绍

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定制菲林光刻掩膜版掩膜板微流控微纳超高精度

聚酯光绘掩膜版

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产品参数：材质：聚酯厚度：0.175mm图形：各种图形线宽最小：大于20um 精度：+ 2um<img src="http://pro89f031.pic48.websiteonline.cn/upload/O1CN01CGXynI1mdyCSRBWU1_!!3090824978.jpg" width="750" height="750" style=""/><img src="http://pro89f031.pic48.websiteonline.cn/upload/O1CN01hLWGtv1mdyCUh8n1u_!!3090824978.jpg" width="750" height="750" style=""/>
喷金掩模板掩膜版掩膜板化学腐蚀孔阵列密集孔

不锈钢金属掩膜版

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主要采用高精度化学腐蚀或者激光切割和焊接工艺来制备不锈钢掩模板。按照目前的高精度化学腐蚀工艺条件，特点如下，供大家参考。1.性价比高的是在0.3mm厚度的304不锈钢钢板上通过化学腐蚀制作线条宽0.5mm(500um)，镂空（挖孔）0.25mm(250um)，误差是30-60um，速度较快，成本相对较低。2.性价比高的是不锈钢板材厚度大于或等于0.3mm，图形中线宽的尺寸大于或等于0.25mm。掩模板整体尺寸在10×10×0.3mm以上的效果好。3.高精度化学腐蚀可以制作线宽0.1mm(100um)的叉指电极掩膜版，实体部分误差30um，空隙部分误差60um，请合理考虑误差，并根据误差情况，设计好自己的图案结构，图案结构设计合理，能事半功倍。价格相对较贵。4.超高精度的激光加工可以制作线宽0.025mm(25um)的掩膜版，误差5um，价格贵。掩模板可以应用于电子束蒸发，热蒸发，磁控溅射等设备中，用来制备OPV、OLED、钙钛矿太阳能电池，光电探测器，场效应晶体管等各种器件图形化薄膜和电极。备注：一般来说，化学腐蚀工艺制备出来的掩模板/掩膜版更光滑，平整度更好，但价格贵些；高精度激光切割和焊接出来的稍微粗糙点（适合在热蒸发镀膜机中蒸镀电极，掩模板有凹槽设计），一般都会打磨，但是满足正常的实验需要一般都没有问题。有特殊要求的客户一定要提前说明。请买家尽量提供CAD图纸，如果实在不能提供，请提供可以准确描述掩模板规格的草图。<img src="http://pro89f031.pic48.websiteonline.cn/upload/20200221_182917_148.jpg" width="750" height="750"/>
金属掩模板/不锈钢掩模板/掩膜板/掩膜版

不锈钢金属掩膜版

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主要采用高精密激光切割和焊接工艺来制备不锈钢掩模板。按照目前的工艺条件，特点如下，供大家参考。1.精度在正负0.1mm，最低要1mm厚度的不锈钢板才可以切1.0mm边正方形，速度快，成本相对较低。2.不锈钢板材厚度大于或等于1mm，图形中槽的尺寸大于或等于1mm。掩模板整体尺寸在100×100×1mm以上的效果好。掩模板可以应用于电子束蒸发，热蒸发，磁控溅射等设备中，用来制备OPV、OLED、钙钛矿太阳能电池，光电探测器，场效应晶体管等各种器件图形化薄膜和电极。备注：一般来说，化学腐蚀工艺制备出来的掩模板/掩膜版更光滑，平整度更好，但价格贵些；高精度激光切割和焊接出来的稍微粗糙点，一般都会打磨，但价格便宜些，但是满足正常的实验需要一般都没有问题。有特殊要求的客户一定要提前说明。请买家尽量提供CAD图纸，如果实在不能提供，请提供可以准确描述掩模板规格的草图。<img src="http://pro89f031.pic48.websiteonline.cn/upload/20200221_182724_144.jpg" width="750" height="750" style=""/><img src="http://pro89f031.pic48.websiteonline.cn/upload/20200221_182724_145.jpg" width="750" height="750" style=""/><img src="http://pro89f031.pic48.websiteonline.cn/upload/20200221_182724_147.jpg" width="750" height="750" style=""/><img src="http://pro89f031.pic48.websiteonline.cn/upload/20200221_182724_146.jpg" width="750" height="750" style=""/>
阵列掩膜有机屏幕OLED蒸镀罩不锈钢蚀刻

不锈钢金属掩膜版

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主要采用高精度化学腐蚀或者激光切割和焊接工艺来制备不锈钢掩模板。按照目前的工艺条件，特点如下，供大家参考。1.性价比高的是在0.3mm厚度的304不锈钢钢板上通过化学腐蚀制作线条宽0.4mm(400um)，镂空（挖孔）0.4mm(400um)，误差是30-60um，速度较快，成本相对较低。2.高精度化学腐蚀可以制作线宽0.1mm(100um)的叉指电极掩膜版，实体部分误差30um，空隙部分误差60um，请合理考虑误差，并根据误差情况，设计好自己的图案结构，图案结构设计合理，能事半功倍。价格相对较贵。 3.超高精度的激光加工可以制作线宽0.04mm(40um)的掩膜版，误差20um，价格贵。 掩模板可以应用于电子束蒸发，热蒸发，磁控溅射等设备中，用来制备OPV、OLED、钙钛矿太阳能电池，光电探测器，场效应晶体管等各种器件图形化薄膜和电极。<img src="http://pro89f031.pic48.websiteonline.cn/upload/O1CN011mdy4gPYgq3Iwiz_!!3090824978.jpg" width="750" height="750"/>
微孔阵列/晶体管沟道 shadow mask最小5um

不锈钢金属掩膜版

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主要采用高精度化学腐蚀或者激光切割和焊接工艺来制备不锈钢掩模板。按照目前的工艺条件，特点如下，供大家参考。1.性价比高的是在0.3mm厚度的304不锈钢钢板上通过化学腐蚀制作线条宽0.4mm(400um)，镂空（挖孔）0.4mm(400um)，误差是30-60um，速度较快，成本相对较低。2.高精度化学腐蚀可以制作线宽0.1mm(100um)的叉指电极掩膜版，实体部分误差30um，空隙部分误差60um，请合理考虑误差，并根据误差情况，设计好自己的图案结构，图案结构设计合理，能事半功倍。价格相对较贵。 3.超高精度的激光加工可以制作线宽0.04mm(40um)的掩膜版，误差20um，价格贵。 掩模板可以应用于电子束蒸发，热蒸发，磁控溅射等设备中，用来制备OPV、OLED、钙钛矿太阳能电池，光电探测器，场效应晶体管等各种器件图形化薄膜和电极。备注：一般来说，化学腐蚀工艺制备出来的掩模板/掩膜版更光滑，平整度更好，但价格贵些；高精度激光切割和焊接出来的稍微粗糙点（适合在热蒸发镀膜机中蒸镀电极，掩模板有凹槽设计），一般都会打磨，但是满足正常的实验需要一般都没有问题。有特殊要求的客户一定要提前说明。请买家尽量提供CAD图纸，如果实在不能提供，请提供可以准确描述掩模板规格的草图。<img src="http://pro89f031.pic48.websiteonline.cn/upload/TB2bbi1zGmWBuNjy1XaXXXCbXXa_!!3090824978.jpg" width="750" height="750" style=""/><img src="http://pro89f031.pic48.websiteonline.cn/upload/TB2utwEzxSYBuNjSsphXXbGvVXa_!!3090824978.jpg" width="750" height="750" style=""/>
叉指电极掩膜版/Mask/不锈钢狭缝片薄片

不锈钢金属掩膜版

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主要采用高精度化学腐蚀或者激光切割和焊接工艺来制备不锈钢掩模板。掩模板可以应用于电子束蒸发，热蒸发，磁控溅射等设备中，用来制备OPV、OLED、钙钛矿太阳能电池，光电探测器，场效应晶体管等各种器件图形化薄膜和电极。备注：一般来说，化学腐蚀工艺制备出来的掩模板/掩膜版更光滑，平整度更好，但价格贵些；高精度激光切割和焊接出来的稍微粗糙点（适合在热蒸发镀膜机中蒸镀电极，掩模板有凹槽设计），一般都会打磨，但是满足正常的实验需要一般都没有问题。有特殊要求的客户一定要提前说明。请买家尽量提供CAD图纸，如果实在不能提供，请提供可以准确描述掩模板规格的草图。<img src="http://pro89f031.pic48.websiteonline.cn/upload/20200221_180835_139.jpg" width="750" height="750" style=""/><img src="http://pro89f031.pic48.websiteonline.cn/upload/20200221_180835_140.jpg" width="750" height="750" style=""/><img src="http://pro89f031.pic48.websiteonline.cn/upload/20200221_180835_141.jpg" width="750" height="750" style=""/>
精密加工钙钛矿太阳能掩膜板/精密掩膜/精密沟道

不锈钢金属掩膜版

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主要采用高精度化学腐蚀或者激光切割和焊接工艺来制备不锈钢掩模板。按照目前的工艺条件，特点如下，供大家参考。1.性价比高的是在0.3mm厚度的304不锈钢钢板上通过化学腐蚀制作线条宽0.4mm(400um)，镂空（挖孔）0.4mm(400um)，误差是30-60um，速度较快，成本相对较低。2.高精度化学腐蚀可以制作线宽0.1mm(100um)的叉指电极掩膜版，实体部分误差30um，空隙部分误差60um，请合理考虑误差，并根据误差情况，设计好自己的图案结构，图案结构设计合理，能事半功倍。价格相对较贵。 3.超高精度的激光加工可以制作线宽0.04mm(40um)的掩膜版，误差20um，价格贵。 掩模板可以应用于电子束蒸发，热蒸发，磁控溅射等设备中，用来制备OPV、OLED、钙钛矿太阳能电池，光电探测器，场效应晶体管等各种器件图形化薄膜和电极。<img src="http://pro89f031.pic48.websiteonline.cn/upload/20200221_180448_135.jpg" width="750" height="750" style=""/><img src="http://pro89f031.pic48.websiteonline.cn/upload/20200221_180448_134.jpg" width="750" height="750" style=""/><img src="http://pro89f031.pic48.websiteonline.cn/upload/20200221_180448_137.jpg" width="750" height="750" style=""/>
匀胶铬版苏打玻璃石英玻璃空白玻璃

光刻铬版/光刻版

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匀胶铬版是玻璃基材+铬层+光刻胶组成，光刻胶主要是AZO1500和TFP650两种，请客户提前选择，由于是密封包装，一盒最小15片，一盒起订！ 匀胶铬版是一种硬面光掩模材料，即光掩膜基版，它是当前及未来微细加工光掩膜制作的主流感光材料（相当于照相用的感光胶卷）。它是在平整的、高光洁度的玻璃基版上通过直流磁控溅射（SP）沉积上氮化铬-氮氧化铬薄膜而形成铬膜基版，再在其上涂敷一层光致抗蚀剂（又称光刻胶）或电子束抗蚀剂制成匀胶铬版。 光掩膜基版是制作微细光掩膜图形的理想感光性空白板，通过光刻制版工艺可以获得所需光掩膜版。简单地说，光掩膜基版在被刻蚀上掩膜图形之后就成为光掩膜版。 匀胶铬版具有高的感光灵敏度、高分辨率、低缺陷密度、耐磨性好、易清洁处理、使用寿命长等特点，当前被广泛应用于IC、LCD、PCB、PDP、DOT等产品掩膜版的制作。
胶片掩膜版聚酯光掩膜光学掩膜版

聚酯光绘掩膜版

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掩模板/掩膜版可以应用于OPV Perovskite OFEF PLED Device等各种器件图形化薄膜和电极。具体价格请和店家联系，不同的规格和数量价格不同，50元只是方便大家拍。 请买家尽量提供CAD图纸，如果实在不能提供，请提供可以准确描述掩模板规格的草图，我们会根据我们的经验提供合理化的加工建议后，设计图纸给客户确认后，正式下单定做。<img src="http://pro89f031.pic48.websiteonline.cn/upload/20200221_175305_133.jpg" width="750" height="750" style=""/><img src="http://pro89f031.pic48.websiteonline.cn/upload/O1CN01P6YP9W1mdyCSRCGCS_!!3090824978.jpg" width="750" height="750" style=""/>